高速イオンビームミリング装置に適用できる大電流DC放電型の全自動ラインビームイオン源 【特長】・熱陰極を用いた大電流密度イオンビーム・最適化された磁界設計による優れたビーム分布均一性・完全自動化された …
プラズマ応用装置やイオンビーム装置をリーズナブルなご予算でカスタムメイクいたします.お客様が開発目標に到達されるまで丁寧にサポートします. 【開発例】 ・化合物薄膜用スパッタ成膜装置 ・イオンビ …
反応性イオンビームミリング装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源です. 【特長】 ・独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム ・新開発の大型同軸導入端子 …
微細加工装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の高出力プラズマ源です. 【特長】 ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場 ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作 ・メタ …
MBE等の超高真空装置にも適応できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の小型原子ビーム源(ラジカル源)です. 【特長】 ・完全メタルシールにより超高真空装置に対応 ・取り扱いが容易な同軸ケ …
大面積イオンビームによる高速ミリング処理に適用できる大型イオン源です. ご要望に合わせオーダーメイドいたします. 【特長】 ・荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化設計 ・耐熱 …