• Advanced plasma technology for next microfabrications!

大電流DC放電型ラインビームイオン源(LBS-120HC)

高速イオンビームミリング装置に適用できる大電流DC放電型の全自動ラインビームイオン源 【特長】・熱陰極を用いた大電流密度イオンビーム・最適化された磁界設計による優れたビーム分布均一性・完全自動化された …

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プラズマ応用装置のカスタムメイク

 プラズマ応用装置やイオンビーム装置をリーズナブルなご予算でカスタムメイクいたします.お客様が開発目標に到達されるまで丁寧にサポートします. 【開発例】  ・化合物薄膜用スパッタ成膜装置  ・イオンビ …

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ECRラインビームイオン源(ELBS-150)

 反応性イオンビームミリング装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源です. 【特長】  ・独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム  ・新開発の大型同軸導入端子 …

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高出力ECRプラズマ源(EPS-120)

 微細加工装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の高出力プラズマ源です. 【特長】  ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場  ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作  ・メタ …

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小型ECR原子/ラジカルビーム源(ERS-35)

 MBE等の超高真空装置にも適応できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の小型原子ビーム源(ラジカル源)です. 【特長】  ・完全メタルシールにより超高真空装置に対応  ・取り扱いが容易な同軸ケ …

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ミリング装置用アンペア級イオン源

 大面積イオンビームによる高速ミリング処理に適用できる大型イオン源です. ご要望に合わせオーダーメイドいたします. 【特長】  ・荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化設計  ・耐熱 …

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