• Advanced plasma technology for next microfabrications!

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 微細加工装置に適用できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の高出力プラズマ源です.

【特長】
 ・独創的な磁石構成による大容積ECR磁場
 ・強力な冷却システムによるkW級大電力動作
 ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
 ・複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト

【装置仕様】
 ・接続真空ポート口径 : Φ120 mm
 ・接続導波管規格 : WR340
 ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
 ・許容マイクロ波電力 : 最大2,000 W
 ・冷却方式 : 水冷

【応用例】
 ・ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワー
 ・反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源
 ・イオン窒化・酸化装置やDLC成膜装置のプラズマソース

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Image of ECR plasma.

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