高速イオンビームミリング装置に適用できる大電流DC放電型の全自動ラインビームイオン源
【特長】
・熱陰極を用いた大電流密度イオンビーム
・最適化された磁界設計による優れたビーム分布均一性
・完全自動化された電源制御システムによる高速ビーム調整
【装置仕様】
・ビームサイズ：120mm×10mm(大型基板対応可能)
・ビームエネルギー：100～2,000 eV
・ビーム電流密度：最大10mA/㎠
・イオン化ガス：水素、窒素、希ガス など
・冷却方式：水冷
【応用例】
・MEMS構造体の高速ミリング加工
・磁気メモリの微細ミリング加工
・高周波素子の共鳴周波数調整
