![%e5%9b%b31](http://www.novelion-sys.com/wp/wp-content/uploads/2016/11/795316b92fc766b0181f6fef074f03fa-300x224.jpg)
大面積イオンビームによる高速ミリング処理に適用できる大型イオン源です.
ご要望に合わせオーダーメイドいたします.
【特長】
・荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化設計
・耐熱 低スパッタ率電極材料の採用により,
低エネルギーかつアンペア級のイオンビームを発生
【装置仕様】
・放電方式:多極地場型 熱陰極DC放電
(ECRプラズマ源も取付け可能)
・ビームサイズ:Φ350mm
・ビーム仕様:1keVx2A
【応用例】
・MEMS加工装置用イオン源
Simulation of first electron orbit.
![135-1](http://www.novelion-sys.com/wp/wp-content/uploads/2016/11/135-1-300x57.jpg)
![135-2](http://www.novelion-sys.com/wp/wp-content/uploads/2016/11/135-2-300x137.jpg)
Simulation of ion beam extraction.