
大面積イオンビームによる高速ミリング処理に適用できる大型イオン源です.
ご要望に合わせオーダーメイドいたします.
【特長】
・荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化設計
・耐熱 低スパッタ率電極材料の採用により,
低エネルギーかつアンペア級のイオンビームを発生
【装置仕様】
・放電方式:多極地場型 熱陰極DC放電
(ECRプラズマ源も取付け可能)
・ビームサイズ:Φ350mm
・ビーム仕様:1keVx2A
【応用例】
・MEMS加工装置用イオン源
Simulation of first electron orbit.


Simulation of ion beam extraction.