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【出展情報】
会期：２０２３年１２月１３日（木）⇒１５日（金） １０：００～１７：００
会場：東京ビッグサイト（東展示場）
展示ホール：７
当社ブース：No．７４２４
当社のブースでは以下の製品をご紹介いたします．
（１） 酸/窒化薄膜形成プロセス装置にて運用実績がある，
『小型ECR原子状ビーム源（ERS-35）』
（２） 高速エッチング装置や活性プラズマ処理装置にも適用できる，
『高出力ECRプラズマ源（EPS-120）』
（３） 反応性イオンビームミリング装置に適用できる，
『ECRラインビームイオン源（ELBS-150）』
（４） 高速イオンビームミリング装置に適用できる，
『大電流DC放電型ラインビームイオン源（LBS-120HC）』
