• Advanced plasma technology for next microfabrications!

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【出展情報】

  会期:2023年12月13日(木)⇒15日(金) 10:00~17:00

  会場:東京ビッグサイト(東展示場)

  展示ホール:7

  当社ブース:No.7424

当社のブースでは以下の製品をご紹介いたします.

 (1) 酸/窒化薄膜形成プロセス装置にて運用実績がある,
      『小型ECR原子状ビーム源(ERS-35)』
 (2) 高速エッチング装置や活性プラズマ処理装置にも適用できる,
      『高出力ECRプラズマ源(EPS-120)』 
 (3) 反応性イオンビームミリング装置に適用できる,
      『ECRラインビームイオン源(ELBS-150)』
 (4) 高速イオンビームミリング装置に適用できる,
      『大電流DC放電型ラインビームイオン源(LBS-120HC)』