• Advanced plasma technology for next microfabrications!

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 MBE等の超高真空装置にも適応できる,ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型の小型原子ビーム源(ラジカル源)です.

【特長】
 ・完全メタルシールにより超高真空装置に対応
 ・取り扱いが容易な同軸ケーブル給電
 ・メタルコンタミフリーの誘電体ライニング
 ・ラジカルビームの発生に優れた,バイアス電極付きの誘電体引出グリッド

【装置仕様】
 ・接続真空ポート規格 : ICF70
 ・同軸コネクタ規格 : N型
 ・適合マイクロ波周波数 : 2.45 GHz
 ・許容マイクロ波電力 : 最大 100 W
 ・冷却方式 : 水冷

【応用例】
 ・MBE装置の窒素/酸素ラジカル源
 ・表面クリーニングのための原子状水素源

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Picture of plasma generation and radical flux.