大面積イオンビームによる高速ミリング処理に適用できる大型イオン源です．
ご要望に合わせオーダーメイドいたします．
【特長】
・荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化設計
・耐熱 低スパッタ率電極材料の採用により，
低エネルギーかつアンペア級のイオンビームを発生
【装置仕様】
・放電方式：多極地場型 熱陰極DC放電
（ＥＣＲプラズマ源も取付け可能）
・ビームサイズ：Φ３５０ｍｍ
・ビーム仕様：１ｋｅＶｘ２Ａ
【応用例】
・ＭＥＭＳ加工装置用イオン源
Simulation of ion beam extraction.
